Behind the executive mask; [electronic resource] greater managerial competence through deeper self-understanding [by] Alfred J. Marrow.

За: Вид матеріалу: Текст Серія: AMA management reports ; no. 79Публікація: New York, American Management Association [1964]Опис: 143 p. 24 cmТематика(и): Десяткова класифікація Дьюї:
  • 658
Класифікація Бібліотеки Конгресу:
  • HF5500 .M288
  • HD28 .F571 no. 79
Електронне місцезнаходження та доступ:
Тип одиниці: ЕКнига Списки з цим бібзаписом: Ресурси Open Library
Мітки з цієї бібліотеки: Немає міток з цієї бібліотеки для цієї назви. Ввійдіть, щоб додавати мітки.
Оцінки зірочками
    Середня оцінка: 0.0 (0 голос.)
Немає реальних примірників для цього запису

Bibliography: p. 141-143.

Необхідна авторизація на https://archive.org/ (створення облікового запису безкоштовно)

Необхідна авторизація на https://openlibrary.org/ (створення облікового запису безкоштовно)

Немає коментарів для цієї одиниці.

для можливості публікувати коментарі.